BM8-II是一款定义反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVCD）等离子处理系统基于模块化设计制造，采用一款通用的真空处理舱及机柜。
产品货号：BM8-II 反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻 产地：原装进口 反应离子刻蚀/沉积等离子处理 价格：询价 点击数：2155 商家询价
台式反应离子刻蚀系统，台式反应离子刻蚀(RIE)系统，圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。
产品货号：VHF圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合 产地：原装进口VHF系列等离子处理系统 价格：询价 点击数：2099 商家询价
GPC-102 A是一款台式紧凑型等离子清洗机，具有体积仅为台式烤箱大小、非破坏性的纳米级清洗的特点，是一款特别适合实验室、超净间及研发机构的理想等离子清洗设备。等离子清洗机采用工艺气体如大气、氩气、氮气、氧气或氦气等作为清洗气体介质，有效避免了因液体清洗剂对
产品货号：GPC-102 产地：美国 价格：询价 点击数：1724 商家询价